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中国打造自己的EUV光刻胶规范

有个统一的测评规则，大家好办多了。现在不同实验室、不同厂家的测试方法五花八门，谁的数据能放一块儿比，常常比着来比着去没个准儿。这个标准一旦走完程序，按现在的节奏看，有望在2026年正式出来，对国产EUV光刻胶的研发和检验会起到挺实在的参照作用。

这消息一出，市场马上就有动静。到10月26日，披露三季报的那些跟光刻胶有关系的公司里，六家都交了“喜报”。像晶瑞电材，净利润比去年同期增长了超过192倍，听着就震惊；艾森股份股价也冲了个44.7%的涨幅。机构调研名单也在变，飞凯材料、广信材料这些名字开始常露脸

电子发烧友网报道（文/黄山明）芯片，一直被誉为人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者，而制造芯片的重要设备光刻机就是雕刻这个结晶的“神之手”。但仅有光刻机还不够，还需要光刻胶、掩膜版以及其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。

10月23日，国家标准委网站一则公示信息，让国内半导体产业界为之振奋——我国首个《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》拟立项标准正式进入公示期，公示截止时间为11月22日。作为EUV光刻胶领域的首个国家标准，其背后不仅是技术标准化的突破，更意味着我国在半导体“卡脖

另外在技术突破层面，本月早些时候，北京大学化学与分子工程学院团队，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米。

近日，国家标准委网站公布，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟确立标准，自10月23日起公开征询意见，截止日期为11月22日。该标准由上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司共同

国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。作为我

国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。

2025年10月的深圳，一场半导体展会正悄然改写全球芯片产业格局。在WeSemiBay半导体生态博览会上，中国企业集中亮出“硬核成绩单”：上海微电子旗下子公司Amies Technologies的化合物半导体光刻设备已实现量产交付，华为参股的SiCarrier

但很多人可能不知道，光刻机只是“相机”，真正的底片是光刻胶。没有光刻胶，光刻机再强大，也拍不出清晰的芯片电路。过去很长一段时间，这个“隐形英雄”几乎被国外垄断。

近日，在2025集成电路（无锡）创新发展大会上，无锡市政府宣布启动两项半导体材料领域重大突破性项目，标志着中国在EUV光刻胶核心技术领域取得关键进展，有望打破国外长期垄断。

本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。